随着摩尔定律放缓,半导体产业进入算力驱动时代,AI、大模型训练、5G通信、自动驾驶等场景推动芯片向高并行度和高集成度发展,单颗芯片的功耗水平快速攀升,散热已从“优化设计”转变为“制约性能的物理瓶颈”。数据显示,GPU/AI芯片领域,NVIDIA H100、华为昇腾910B等高端GPU功耗已逼近700W,未来Blackwell/昇腾下一代产品预计突破1000W;数据中心CPU方面,Intel Xeon Sapphire Rapids、AMD EPYC Genoa平均功耗达400–500W,超高规格配置可突破700W;5G/6G基站射频芯片单个射频功率放大器发热密度已超过300 W/cm²,远超传统散热极限。然而,目前主流的铜、AlN、SiC、石墨烯等散热材料存在天然瓶颈:铜热导率约400 W/m·K且重量大,AlN热导率150–200 W/m·K难以应对700W+需求,SiC热导率270–350 W/m·K且成本高,石墨烯宏观导热不足难以规模应用,唯有金刚石以2000–2200 W/m·K的超高热导率成为唯一能满足700W+散热需求的材料。作为中国超硬材料领域的领军企业,国机精工依托“三磨所”深厚积累,在金刚石散热技术领域实现多维度突破,成为推动国产替代的核心力量。
一、芯片散热需求背景与传统材料局限性
①随着摩尔定律放缓,半导体产业进入算力驱动时代,AI、大模型训练、5G 通信、自动驾驶等场景推动芯片向高并行度和高集成度发展,单颗芯片的功耗水平快速攀升:GPU/AI 芯片:NVIDIA H100、华为昇腾 910B 等高端 GPU 功耗已逼近 700W;未来 Blackwell/昇腾下一代产品预计突破 1000W;数据中心 CPU:Intel Xeon Sapphire Rapids、AMD EPYC Genoa 平均功耗已达 400–500W,超高规格配置可突破 700W;5G/6G 基站射频芯片:单个射频功率放大器发热密度已超过 300 W/cm²,远超传统散热极限。
②目前主流芯片散热方案包括铜、AlN(氮化铝)、SiC(碳化硅)、石墨烯等,但它们的热导率存在天然瓶颈:铜 (Cu):约 400 W/m·K,热导率不足,重量大。氮化铝 (AlN):150–200 W/m·K,热导率低,难以应对 700W+。碳化硅 (SiC):270–350 W/m·K,成本高,导热有限。石墨烯:理论值 ~1000 W/m·K,但宏观导热不足,难以规模应用。
③金刚石:2000–2200 W/m·K,是唯一能满足 700W+ 散热需求的材料。
二、国机精工技术与产业布局优势
①掌握 MPCVD(微波等离子化学气相沉积)工艺,具备 6kW、10kW、36kW、60kW 等系列设备,覆盖研发、小批量试制到产业化生产的完整链条;在 大尺寸单晶(2–4 英寸)、高导热多晶金刚石膜 生长方面具备国内领先、国际先进水平;唯一能够自主研发和生产金刚石制造设备的上市公司,实现装备与材料一体化,具备快速迭代与成本优化能力。
②单晶金刚石散热片:热导率 1800–2200 W/m·K,主要用于高频高速芯片直接热沉;多晶金刚石膜:尺寸大、成本更优,适合光电、射频等器件;金刚石-铜复合材料:兼具高导热与良好加工性,已进入功率模块测试环节;光学窗口片:高透过率、耐高功率激光,服务于军工与高端工业市场。
③新疆哈密已建成功能性金刚石产业化生产线,目标年产数十万克拉级高导热金刚石;已向 华为等高端客户 提供散热片样品并获得认可,部分型号进入千万级出货规模,完成从验证到供货的跨越;正在拓展 GPU 厂商、国内外功率半导体巨头,逐步融入全球供应链体系。
三、市场前景与增长预期
①全球市场规模:2024 年不足 10 亿美元,预计 2030 年超过 100 亿美元,CAGR > 100%。
②中国市场:目前不足 10 亿元人民币,预计 2030 年达 300–400 亿元人民币。
③龙头企业:Element Six(国际)、住友电工(日本)、国机精工(中国)。国机精工已进入华为供应链并实现千万级出货,具备国产替代优势。
四、与华为合作进展及成效
①随着 AI、大模型和 5G/6G 的发展,华为高端芯片(如昇腾系列)功耗快速上升,散热成为制约性能的核心瓶颈。华为在高性能计算与数据中心布局上,对高导热材料的需求日益迫切。国机精工下属三磨所(郑州磨料磨具磨削研究所有限公司)是中国第一颗人造金刚石的诞生地,拥有数十年超硬材料研发经验。三磨所为华为提供高导热 CVD 金刚石热沉片样品,热导率可达 1800–2000 W/m·K,已通过部分器件验证。双方开展联合测试,针对华为昇腾芯片和基站功率器件,验证金刚石散热效果。
②国机精工已向华为提供热沉片样品并逐步小批量供货。目前出货规模已达千万级别(片/年),显示其进入量产供应链环节。
③华为测试表明,采用金刚石热沉片后,昇腾芯片温度较传统 AlN/SiC 散热方案降低 20–30℃,显著提升稳定性与寿命。在 5G 基站射频芯片实验中,金刚石散热片使得功放单元热流密度承载能力提升近一倍。原有高导热金刚石材料长期依赖 Element Six(英国)、住友电工(日本)。三磨所的国产材料性能已接近国际先进水平,并逐步进入华为核心供应链,实现自主可控。
五、综合领先性分析
①合成工艺与装备能力:掌握 MPCVD(微波等离子化学气相沉积)工艺,具备 6kW、10kW、36kW、60kW 等系列设备,覆盖研发、小批量试制到产业化生产的完整链条;在 大尺寸单晶(2–4 英寸)、高导热多晶金刚石膜 生长方面具备国内领先、国际先进水平;唯一能够自主研发和生产金刚石制造设备的上市公司,实现装备与材料一体化,具备快速迭代与成本优化能力。
②从装备制造 → 原料合成 → 金刚石切割抛光 → 下游热沉、光学应用 → 检测标准,国机精工形成中国唯一的全链条闭环。
③新疆哈密产业线已实现年产 10 万克拉级功能性大尺寸金刚石;扩产目标:到 2027 年达 100 万克拉级,2030 年突破 200 万克拉级,产能规模居全国首位。已向 华为 提供热沉片样品并进入供应链;部分产品出货规模已达 千万级,率先实现商业化落地。
六、最后总结
当芯片功率突破 700W,传统散热材料全面失效,金刚石散热成为唯一可行方案。随着 AI、5G、新能源汽车和军工应用的爆发,金刚石热沉片市场将在未来 5–10 年迎来百倍增长。中国企业凭借完整产业链与政策支持,有望在全球范围内实现从追赶到领先的跨越。国机精工凭借“三磨所”的历史积淀、自主装备研发能力、领先的工艺路线和率先进入华为供应链的市场验证,已在中国金刚石制造技术领域确立了绝对龙头地位,无论在技术指标、产业化进展还是市场出货规模上,均领先于国内其他竞争对手,稳居中国第一。